Měřicí hlava VK-X4100

Model

VK-X4100

Typ

Měřicí hlava

Celkové zvětšení

42× až 28800× ^*1

Zorné pole

11 až 7398 μm

Princip měření

Konfokální laser, Focus variation, interferometrie s bílým světlem, spektrální interference

Vlnová délka laseru

Polovodičový laser, 404 nm

Max. rychlost laserového měření

Povrch: 125 Hz, Linie: 7900 Hz ^*2

Max. výkon laseru

1,0 mW

Třída laseru

Třída 2 (IEC60825-1)

Přijímací prvek světelného signálu laseru

16bitový fotonásobič

Zdroj bílého světla

Bílé světlo LED

Přijímací prvek signálu bílého světla

Barevný CMOS s vysokým rozlišením

Konfokální laser

Rozlišení displeje na výšku

0,1 nm

Opakovatelnost výšky σ

10×: 100 nm, 20×: 40 nm, 50×: 12 nm

Přesnost výšky

0,2+ L/100 μm nebo méně ^*3

Rozlišení displeje na šířku

0,1 nm

Opakovatelnost šířky 3σ

10×: 200 nm, 20×: 100 nm, 50×: 40 nm

Přesnost šířky

Naměřená hodnota ±2 % nebo méně ^*3

Focus variation

Rozlišení displeje na výšku

0,1 nm

Opakovatelnost výšky σ

5×: 500 nm, 10×: 100 nm, 20×: 50 nm, 50×: 20 nm

Přesnost výšky

0,2+ L/100 μm nebo méně ^*3

Rozlišení displeje na šířku

0,1 nm

Opakovatelnost šířky 3σ

5×: 400 nm, 10×: 400 nm, 20×: 120 nm, 50×: 50 nm

Přesnost šířky

Naměřená hodnota ±2 % nebo méně ^*3

Interferometrie s bílým světlem

Rozlišení displeje na výšku

0,01 nm

Rozlišení displeje na šířku

0,1 nm

Opakovatelnost topografie povrchu

0,08 nm ^*4

Opakovatelnost RMS

0,008 nm ^*4

Měření tloušťky vrstvy metodou spektrální interference

Opakovatelnost σ

0,1 nm ^*4

Přesnost

±0,6 % ^*4

Optické pozorování

Počet pixelů

5,6 milionu

Otáčecí zařízení

Elektrické otáčecí zařízení s 6 otvory

Objektiv s kruhovým osvětlením

2,5×, 5×, 10×

Optický zoom

1 až 8×

Napájecí zdroj

Napájecí napětí

100 až 240 V AC, 50/60 Hz

Spotřeba energie

150 VA

Odolnost vůči prostředí

Okolní teplota

+15 až 28 °C

Relativní vlhkost

20 až 80 % RV (bez kondenzace)

Hmotnost

Cca 13 kg