Wafer Notch: Erkennung und Messung

Eine Wafer Notch ist eine definierte Einkerbung an einem Wafer, die mehrere wichtige Funktionen erfüllt:

• Ausrichtung und Orientierung des Wafers während der Fertigung
• Identifikation kristallographischer Ebenen
• Referenzpunkt für Automatisierungsprozesse in der Produktion

Die Wafer Notch dient dabei als wichtiger Orientierungspunkt innerhalb des Fertigungsprozesses und stellt die korrekte Ausrichtung und zuverlässige Weiterverarbeitung sicher.

Die Genauigkeit bei der Erkennung der Wafer Notch hängt entscheidend von der verwendeten Sensortechnologie ab. Der Konfokale Wegmesssensor der Modellreihe CL-3000 von KEYENCE misst die Wafer Notch anhand eines Höhenunterschiedes auf der Wafer-Oberfläche und erreicht dabei eine beeindruckende Genauigkeit von bis zu 1 µm. Dank seines konfokalen Messprinzips eignet sich dieser 1D Laser- Distanzsensor besonders für derart anspruchsvolle Messaufgaben wie die exakte Erkennung von Kerben bei Wafern.

Durch den Verzicht auf elektronische Komponenten ist das System besonders kompakt aufgebaut und erzeugt keine Abwärme. Somit kann die Modellreihe CL-3000 problemlos in empfindlichen Umgebungen wie Ultrahochvakuum oder explosionsgeschützten Bereichen eingesetzt werden. Sein konfokales Design erlaubt zudem die zuverlässige Messung von stark reflektierenden Oberflächen wie denen von Wafern, ohne elektrische Störungen zu verursachen.

Bei der Integration einer Prüfung der Wafer Notch in den Halbleiterfertigungsprozess muss zunächst sichergestellt werden, dass das eingesetzte System nahtlos mit den vorhandenen Produktionsanlagen und Automatisierungsprotokollen zusammenarbeitet. Hierzu kommt meist eine spezielle Software zum Einsatz, die Echtzeit-Datenverarbeitung ermöglicht und so für eine reibungslose, fehlerfreie Prozessführung sorgt.

Zusätzlich muss das Prüfsystem zur Erkennung der Wafer Notch auch unter den typischen Reinraumbedingungen der Halbleiterindustrie zuverlässig arbeiten. Die Messlösungen von KEYENCE erfüllen die genannten Voraussetzungen zuverlässig und lassen sich nahtlos in bestehende Produktlinien integrieren.

Trotz moderner Technologien stellt die Messung der Wafer Notch immer noch eine Herausforderung dar, insbesondere in Hochvakuum-Produktionslinien. Diese umfassen hauptsächlich partikuläre Verunreinigungen und Temperaturschwankungen, aber die größte Herausforderung ist die reflektierende Eigenschaft von Silizium. Die Modellreihe CL-3000 meistert diese Herausforderung durch den Einsatz eines mehrfarbigen Konfokalverfahrens und innovativen Verarbeitungsalgorithmen.

Als weltweit führender Anbieter von hochmodernen Präzisionsmesssensoren und -technologien bietet Ihnen KEYENCE optimale Lösungen für die Erkennung und Messung der Wafer Notch in der Halbleiterfertigung.

Nehmen Sie Kontakt zu uns auf – unsere Experten beraten Sie gerne über die mögliche Integration unserer Geräte in Ihre bestehenden Produktionslinien.